| 注册号: |
G559238 |
第3类
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申请日期: |
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| 申请人名称(中文): |
HOTEL PLAZA ATHENEE,SOCIETE ANONYME
查看他的所有商标
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| 申请人地址(中文): |
25,AVENUE MONTAIGNE,F-75 008 PARIS
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| 申请人名称(英文): |
HOTEL PLAZA ATHENEE,SOCIETE ANONYME |
申请人地址(英文): |
25,AVENUE MONTAIGNE,F-75 008 PARIS |
商 标 图 片 |
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图形要素:
25.1.9-框架和构架
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商 品 / 服 务 列 表 |
| | —— | 用作清洁制剂、抛光膏和磨石的研磨成分的硅 |
| | —— | 用作清洁制剂、抛光膏和磨石的研磨成分的硅 |
| | —— | 用作清洁制剂、抛光膏和磨石的研磨成分的硅 |
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| 初审公告期号: |
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注册公告期号: |
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| 初审公告日期: |
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注册公告日期: |
Mon Oct 01 00:00:00 CST 1990 |
| 专用权期限: |
Sun Oct 01 00:00:00 CST 2000至Fri Oct 01 00:00:00 CST 2010
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是否共有商标: |
否 |
| 后期指定日期: |
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国际注册日期: |
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| 优先权日期: |
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代理人名称: |
国际局
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| 指定颜色: |
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商标类型: |
一般 |